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分子泵入口应装设防护网，以避免异物进入泵内损坏泵转子和定子叶片。抽气系统装有单独粗抽管路的涡轮分子泵抽气系统的操作方法与扩散泵抽气系统相似。在开始粗抽以前，高真空阀和粗抽阀是关着的，而前级管道阀是打开的。首先关闭前级阀，启动粗抽泵（兼前级泵），打开粗抽阀开始对真空室进行抽气。在真空室内的压力降到150~100Pa时关闭粗抽阀，打开前级管道阀，再启动涡轮分子泵（需先接通冷却系统）。

如果分子泵入口处装有液氮冷阱，则应在泵加速到额定转速后（一般需5~10min）加注液氮。1-涡轮分子泵；2-液氮冷阱；3-放气阀；4-电离规；5-热传导规；6-粗抽阀；7-机械泵；8-前级管路阀；9-高真空阀。图1 典型涡轮分子泵抽气系统粗抽系统的配置随真空室的容积大小而有所不同。对500L/s或更小的涡轮分子泵来说，可采用一台双级旋片泵；1000L/s以上的涡轮分子泵则采用以机械泵为前级泵的罗茨泵机组。

在压力为100到150Pa时关闭粗抽阀，把真空室切换到涡轮分子泵上。对某些泵，这样做会引起轻微而滞后的瞬时减速，但这对抽气并无影响。正如扩散泵抽气系统那样，涡轮分子泵系统中的很主要的物质是水蒸气，其臭气时间将受液氮冷阱抽速的支配。如果不用液氮冷阱，那么这个系统抽除水蒸气的速度就会比同样抽速的无冷阱扩散泵略慢一些。

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视频作者：广州潽拓光电科技有限公司

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分子泵的叶轮是高速旋转的精密件，在分子泵运转中，不允许固体杂物落到叶轮上,以避免损坏叶轮。也要防止大气突然冲入正在运转中的分子泵。因为这也有可能损坏叶轮，此外,分子泵运转过程中,要远离强磁场。结论改变氦质谱检漏仪的分子泵转速，检测信号值发生变化，仪器在运行时，分子泵转速改变后，只要改变漏率信号的修正系数，无需再次定标，即可保证检测漏率的准确性。

若仪器检测信号时，信号值偏小，可以考虑降低仪器的分子泵转速，来提高检测信号值，提高仪器的检测灵敏度。：涡轮分子泵应用于角分辨光电子能谱ARPES涡轮分子泵应用于角分辨光电子能谱ARPES。角分辨光电子能谱Angleresolvedphotoemissipectroscopy简称ARPES利用光电效应研究固体的电子结构.

光电子在真空飞行的过程中,被一个接受角度很小的能量分析器收集计数.角分辨光电子能谱主要由光源,电子分析器,样品控制台以及超高真空的获得和维护系统组成.分子泵广泛配套在真空系统已保证超高真空的获得,同时搭配残余气体分析仪PrismaPlus共同使用.

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通用的沉积技术有化学气相淀积（CVD）、蒸发和溅射PVD。一般来说，其中还要夹杂低温（≤500℃）退火工艺等热处理工艺，用以增进金属层和半导体之间的低电阻接触、消除内应力等。设备运行过程中需要高洁净的真空环境，一般采用以磁悬浮分子泵为主的无油真空系统。

刻蚀是用化学或物理方法有选择地从硅片表面去除不需要材料的过程。刻蚀的基本目标是在涂胶的硅片上正确地掩膜图形。现代化的干法刻蚀设备包括复杂的机械、电气和真空系统，同时配有自动化的刻蚀终点检测和控制装置。刻蚀应用工况复杂，清洁性差，充入特种气体种类繁多，因此需要特殊处理的干泵和磁悬浮分子泵。

离子注入设备：离子注入是指在真空环境下，当离子束射向固体材料时，受到固体材料的抵抗而速度慢慢减低下来，并很终停留在固体材料中的现象。离子注入是半导体表面附近区域进行掺杂的主要技术，其目的是改变半导体的载流子浓度和导电类型。离子注入机是集成电路制造工序中的关键设备，需要高清洁的真空环境，以保证离子掺杂浓度和剂量的准确性。

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